二氧化硅悬浮液

核心产品优势

1. 球形纳米磨料，零划痕无亚表面损伤

颗粒为均匀球形，无尖锐棱角，仅温和去除前道细微纹路，不会产生嵌入型划痕、表层微损伤；完美解决高温合金、涂层抛光发黑、雾面难题，清晰显露晶粒、孪晶、析出相等微观组织。

2. 化学+机械协同抛光，软质材料不易变形

弱碱性体系具备轻微化学软化作用，抛光铝、铜、铅、锡等低硬度软金属时，杜绝拖拽、形变、橘皮表面，样品成像层次分明。

3. 长效稳定胶体，久放不硬沉淀

专用分散配方，静置仅轻微分层，摇晃即可恢复均匀悬浮；无硬质团聚大颗粒，批次抛光一致性高，检测数据可重复对比。

4. 适配电镜高精度检测需求

抛光后试样表面洁净无残留，无磨料嵌入，直接满足扫描电镜、EBSD背散射衍射、偏振光金相严苛观测标准，是半导体、复合材料、热喷涂层制样刚需。

5. 环保水性配方，清洗便捷

全水性低VOC配方，无重金属有害物质；纯水即可冲洗干净，不会腐蚀抛光布、设备底盘，废液处理简单安全。

规格与配套

• 标准粒度：0.02μm、0.04μm、0.05μm三大主流型号；

• 适配抛光布：多孔 聚氨酯/氯丁橡胶/阻尼抛光垫；

• 适配设备：全自动循环磨抛机、半自动、振动抛光设备，兼容全系磁性换盘系统；

• 包装：500ml、1L密封防漏塑料瓶，仓储运输不易漏液。

适用试样场景

航空高温合金、热喷涂涂层、半导体晶圆、陶瓷、粉末冶金、有色金属、PCB线路板、矿物晶体、高分子复合材料、需要EBSD/SEM分析的精密试样。